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2015年3月11日 研磨轮「UltraPoligrind」 采用微细磨粒「UltraPoligrind」无需使用化学药物即可进行薄型晶圆加工。可以 维持研磨的去疵效果(Extrinsic Gettering,外部去疵 追求更高效率的300 mm - DISCO HI-TEC CHINA2015年3月11日 研磨轮「UltraPoligrind」 采用微细磨粒「UltraPoligrind」无需使用化学药物即可进行薄型晶圆加工。可以 维持研磨的去疵效果(Extrinsic Gettering,外部去疵
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了解更多2021年7月6日 磨 轮,磨轮修整板,工作台。 操作简便 DFG8540/8560 配置了触摸式液晶显示器及图 形化用户接口GUI(Graphical User Interface),提高了操作便利性。而且设备的 机械状态和加 工状况可在控制画面上同步显 示。操作人员通 过触摸控制画面上的图形化按 Microsoft PowerPoint - dfg8540 8560_c.ppt - DISCO HI 2021年7月6日 磨 轮,磨轮修整板,工作台。 操作简便 DFG8540/8560 配置了触摸式液晶显示器及图 形化用户接口GUI(Graphical User Interface),提高了操作便利性。而且设备的 机械状态和加 工状况可在控制画面上同步显 示。操作人员通 过触摸控制画面上的图形化按
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了解更多2023年3月2日 硅片制造环节:DISCO 研磨机用于减薄从硅锭切割的晶圆,随着半导体芯片变得更 ... (二)半导体切磨抛材料精度要求高,DISCO 八十余载立体式布局构筑龙头地位 Disco 从 1937 年成立之初即从事半导体切磨抛材料,经过八十多年深耕,公司在切磨抛 ... 半导体行业专题研究报告:半导体切磨抛装备材料的国产化 ...2023年3月2日 硅片制造环节:DISCO 研磨机用于减薄从硅锭切割的晶圆,随着半导体芯片变得更 ... (二)半导体切磨抛材料精度要求高,DISCO 八十余载立体式布局构筑龙头地位 Disco 从 1937 年成立之初即从事半导体切磨抛材料,经过八十多年深耕,公司在切磨抛 ...
了解更多由于在加工过程中,不使用水和化学研磨液,所以能够降低客户的运行成本。. 干式抛光磨轮. 消除应力方法 (干式抛光法),是我公司开发的晶片背面研削的新技术。. 这项技术和以往的背面研削不同,在对晶片进行研削时,将保留晶片外围的边缘部分(约3mm左右 ... 消除应力方法(干式抛光法) 解决方案 DISCO HI-TEC CHINA由于在加工过程中,不使用水和化学研磨液,所以能够降低客户的运行成本。. 干式抛光磨轮. 消除应力方法 (干式抛光法),是我公司开发的晶片背面研削的新技术。. 这项技术和以往的背面研削不同,在对晶片进行研削时,将保留晶片外围的边缘部分(约3mm左右 ...
了解更多2021年1月8日 DISCO 机台不单可以将同,半导体设备公司:迪思科科技Disco Corporation (DSCSY,,DISCO Corporation是一家日本精密工具制造商,特别是针对半导体生产行业。. 公司生产切割锯和激光锯,以切割半导体硅晶片和其他材料; 用于将硅和化合物半导体晶圆加工到超薄水平的 ... disco研磨机2021年1月8日 DISCO 机台不单可以将同,半导体设备公司:迪思科科技Disco Corporation (DSCSY,,DISCO Corporation是一家日本精密工具制造商,特别是针对半导体生产行业。. 公司生产切割锯和激光锯,以切割半导体硅晶片和其他材料; 用于将硅和化合物半导体晶圆加工到超薄水平的 ...
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